Polvere solida di crioconservazione bianca di Suoyi tetracloruro di afnio HfCl4 per il Strato atomico deposizione a film sottile (ALD) di pellicole di ossido di afnio

Numero CAS: 13499-05-3
Formula: hacl4
EINECS: 236-826-5
Certificazione: ISO
Purezza: 99% min
Tipo: cloruro di afnio

Products Details

  • Panoramica
  • Descrizione del prodotto
  • Imballaggio e spedizione
  • Profilo aziendale
Panoramica

Informazioni di Base.

Model No.
SY-HACL-02
Standard Grade
Industrial Grade
Pacchetto di Trasporto
1kg/Bag/Bottle
Specifiche
99% min
Marchio
Suoyi
Origine
Repubblica Popolare Cinese
Codice SA
8112929019
Capacità di Produzione
15ton/Month

Descrizione del Prodotto

TETRACLORURO DI AFNIO cloruro di afnio (IV), 99%

Descrizione del prodotto
Suoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide FilmsSuoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide Films

Suoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide Films

 

Il cloruro di afnio(IV) è il composto inorganico di formula HfCl4. Questo solido incolore è il precursore della maggior parte dei composti organometallici afnio.  

 

Formula chimica:HfCl4

Massa molare: 320.302 g/mol

Aspetto:solido cristallino bianco

Densità: 3.89 g/cm3

Punto di fusione: 432 °C (810 °F; 705 K)

 

 

Applicazione

 

 

 

Il tetracloruro di afnio è il precursore di catalizzatori altamente attivi per la polimerizzazione di Ziegler-Natta di alcheni, specialmente propilene. Catalizzatori tipici sono derivati dal tetrabenzilafnio.

 

HfCl4  è un acido di Lewis efficace per varie applicazioni nella sintesi organica. Per esempio, il ferrocene viene alchilato con allildimetilclorosilano più efficacemente usando cloruro di afnio rispetto al tricloruro di alluminio. La maggiore dimensione di HF può diminuire la tendenza di HfCl4 a complessi a ferrocene.

 

HfCl4  aumenta la velocità e il controllo delle cicloaddizioni 1,3-dipolari. Si è trovato che produce risultati migliori rispetto ad altri acidi di Lewis quando usati con aldoximi arilici ed alifatici, permettendo la formazione specifica di esoisomeri.

 

Imballaggio e spedizione

Suoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide Films

Profilo aziendale

Suoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide Films

Suoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide FilmsSuoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide FilmsSuoyi White Crystaline Solid Powder Hfcl4 Hafnium Tetrachloride for The Atomic Layer Thin Film Deposition (ALD) of Hafnium Oxide Films

Contattaci

Non esitare a inviare la tua richiesta nel modulo sottostante Ti risponderemo entro 24 ore